近幾十年來人們在荷葉，微納結構的親水性情況水黽腿，蝴蝶翅膀等自然界中超疏水性組織和器官的啟發(fā)下，研究了各種各樣的超疏水納米涂層材料，超疏水納米涂層材料的設計和研發(fā)的目標不僅在于模仿生物的功能結構，更主要的是制備組分和結構均可調的超疏水表面。超疏水納米涂層材料具有特殊微納米結構，因此有疏水自清潔性，防污染等一系列優(yōu)異性能，同時在強度、耐熱、耐酸堿等性能方面又十分優(yōu)異的新材料。

3、運行簡單、安全。4、設計簡潔、美觀。5、產品性價比高。微波等離子體去膠機是半導體行業(yè)必不可少的設備，微納結構的親水性情況從事微納加工工藝研究，主要用于半導體及其他薄膜加工工藝過程中，各種光刻膠的干燥去除、基片清洗、電子元件的開封等。研究方向：等離子體表面改性，有機物質表面等離子清潔，等離子體蝕刻，等離子體灰化，增強或減弱浸潤性等。

等離子清洗過程涉及許多影響顆粒并直接影響去除效果的復雜物理過程，微納結構親水性如等離子的產生和沉積能量的積累。直徑為10～2納米的顆粒分布在硅襯底表面，除極小的納米顆粒外，大部分顆粒在等離子體的作用下被去除。等離子沖擊波對去除微納米顆粒的影響非常明顯。直徑大于 0.5 μm 的顆粒被完全去除，但小于該尺寸的顆?；救コ嗽紨?shù)量的 50% 左右。

在集成電路或MEMS微納米加工前道工序中，微納結構的親水性情況晶圓表面會涂上光刻膠，然后光刻，顯影，但光刻膠只是圖形轉化的媒介，當光刻后在光刻膠上形成微納米圖形后，需要進行下一步的生長或刻蝕的工藝，之后需要用某種方法把光刻膠去除。等離子清洗機又稱等離子體去膠機可實現(xiàn)此功能。

微納結構的親水性情況

等離子清洗機特別用于半導體封裝和組裝、等離子處理解決方案 (ASPA)、晶圓級封裝 (WLP) 和微機械 (MEMS) 組件。等離子清潔劑活化處理的應用包括改進清潔、引線鍵合、除渣、集結、活化和蝕刻。。在集成電路和MEMS微納加工之前的制程中，晶圓表面涂有光刻膠，然后進行光刻顯影，但光刻膠只是圖形轉換的介質。光刻之后，在光刻膠上形成微納圖案后，必須進行下一步的生長或刻蝕，然后以某種方式去除光刻膠。

等離子清洗器活化處理應用包括改進的清洗、鉛鍵合、除渣、團塊粘合、活化和蝕刻。。在集成電路或MEMS微納加工的前工序中，晶圓表面會涂覆光刻膠，然后進行光刻和顯影。然而，光刻膠只是圖案轉換的介質。光刻后的光刻膠上形成微納圖案后，需要進行下一步的生長或蝕刻工藝，然后通過某種方法去除光刻膠。等離子清洗機，又稱等離子除膠機，可以實現(xiàn)這一功能。等離子體清潔器利用射頻或微波產生等離子體，同時引入氧氣或其他氣體。

處理時間越長，與水的接觸角越小[13-15]，對CF4、CH2F2等含氟單體進行等離子體處理可以使高分子材料表面氟化，增加其疏水性[15]。 HSIEH 等人。 [16]發(fā)現(xiàn)未經處理的PET薄膜與水的接觸角為73.1°，AR等離子體處理5分鐘。測量一天后，與水的接觸角下降到33.7°，并且隨著儲存時間的延長接觸角緩慢增加，說明治療效果隨時間下降。放置10D后，接觸角增加到41.3°。

環(huán)保水性涂料工藝是許多企業(yè)涂裝過程中生產的核心環(huán)節(jié)。大氣等離子表面清洗設備的應用，為水性涂裝提供了可能。 大氣等離子表面清洗設備的預處理還可以去除表面的油污和灰塵，增強材料的表面勢能。

微納結構親水性

2.等離子清洗對蓬松紡織品能帶來顯著的加工效果等離子體清洗機產生的等離子體會對紡織材料表面產生衰變、交換、熱聚合、聚合物等多種行為。此外，微納結構親水性在紡織商品貨物操作程序中，等離子體中的化學分子、分子結構和正離子滲入紡織材料表面，可以使紡織材料表面的高分子化合物解鏈并帶來物理化學反應，從而保證表面離子注入和鈍化處理，從而提高紡織材料之間的吸水性、柔韌性、附著力和滑動摩擦。

等離子體狀態(tài)中存在下列物質：處于高速運動狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團（自由基）；離子化的原子、分子；未反應的分子、原子等，微納結構的親水性情況但物質在總體上仍保持電中性狀態(tài)。在真空腔體里，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產品表面．以達到清洗目的。真空等離子清洗的優(yōu)勢 :等離子清洗作為重要的材料表面改性方法，已經在眾多領域廣泛使用。