濃縮的HMDSO被用作前驅(qū)體。前驅(qū)體在管狀等離子體中發(fā)生反應(yīng)，薄膜plasma表面活化在襯底上沉積SiOx薄膜。以圓蓋玻璃為基材，硝酸銀溶液或銀納米粒子懸浮液為噴涂添加劑。為保證涂層的抗菌效果，用異丙醇與水的體積比為1:1的混合物制備了硝酸銀。溶液通過閥門、蠕動泵和加壓氣體(通常是氮?dú)?直接噴射到等離子體中。樣品架可在x、Y方向移動。
主要工藝問題:A、紙粉紙毛對環(huán)境和設(shè)備的決定;打磨決定了工作效率，薄膜plasma表面清洗工件會脫膠;糊盒的成本很高。當(dāng)使用真正的筆刷時(shí)，薄膜表面的達(dá)因值可能小于40達(dá)因或更低。(重)點(diǎn)是，除非打印機(jī)告訴膠片供應(yīng)商他需要雙面電暈處理過的膠片，否則另一種情況是，打印機(jī)得到的是單面處理過的膠片，在膠片之后可以涂上。通常的結(jié)果顯示，表面的達(dá)因值較低，等離子噴涂膜的加工速度不同。
上述研究三熱障涂層的高溫氧化行為表明,熱障涂層氧化可分為六個(gè)階段:氧氣吸附,氧擴(kuò)散在陶瓷層,選擇性氧化生產(chǎn)氧化鋁薄膜,薄膜生長,厚膜生長和厚膜破壞鋁的分布直接影響保護(hù)膜的生長和生長，薄膜plasma表面清洗進(jìn)而影響熱障涂層的抗氧化性。。等離子體工藝適用于各種包裝材料的預(yù)處理，甚至一些復(fù)合包裝材料中的薄膜。
1. 工業(yè)上有哪些類型的等離子表面處理工藝?低溫等離子體設(shè)備是目前常用的一種設(shè)計(jì)方案，薄膜plasma表面活化應(yīng)用比較成熟的改善表面附著力(表面自由能)方案包括:電暈(加工產(chǎn)品有局限性，使用時(shí)產(chǎn)生大量臭氧，通常用于薄膜行業(yè))、化學(xué)浸漬(環(huán)保)，超聲波清洗，超聲波清洗的主要作用是清除表面污漬，灰塵，外部污染，殘油等)，低溫等離子設(shè)備(通過物理和...
