我知道的是：表面激光合金化、噴丸、滲碳、氮化、鍍膜，氮化硅的親水性其實(shí)你要說(shuō)得更詳細(xì)一些，比如金屬表面處理使金屬?gòu)?qiáng)化方法或者耐腐蝕性增強(qiáng)等等，因?yàn)榻饘俦砻嫣幚淼姆椒ê芏啵械纳婕拔锢碜兓?，有的涉及化學(xué)變化，它們的金屬表面處理目的是不一樣的。如果用單指等離子表面處理器處理，如果是各種塑料，一般可以保持40小時(shí)左右，效果比較理想。特定的塑料制品需要特定的差異；如果是金屬，可以保存40多個(gè)小時(shí)，但效果會(huì)越來(lái)越弱。。

因此，氮化硅的親水性如果發(fā)現(xiàn)等離子體表面墊圈的側(cè)壁蝕刻的主蝕刻步驟的終點(diǎn)監(jiān)測(cè)被暴露，則立即停止蝕刻并切換過(guò)蝕刻步驟。主刻蝕步驟中殘留的氮化硅膜通過(guò)過(guò)刻蝕步驟被刻蝕去除，同時(shí)停止在氧化硅膜上，以防止損壞下面的硅襯底。過(guò)蝕刻步驟通常使用 CH3F 或 CH2F2 和 O2 氣體的組合。 CH3F 氣體分解為 CHx 和 F. + H。等離子體中的撞擊離子會(huì)破壞 Si-O 鍵。

由于氮化硅的流動(dòng)性不如氧化物，氮化硅的親水性蝕刻難度較大。等離子體表面處理機(jī)可以解決蝕刻的困難。等離子體蝕刻是通過(guò)化學(xué)或物理作用，或物理和化學(xué)作用的結(jié)合來(lái)進(jìn)行的。在反應(yīng)過(guò)程中,通過(guò)反應(yīng)室中的氣體輝光放電,從而形成含離子等離子體,電子、自由基等活性物質(zhì),這些物質(zhì)由于其擴(kuò)散特征,將吸附介質(zhì)的表面,與介質(zhì)的表面原子的化學(xué)反應(yīng),揮發(fā)物。

2021年GaN技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)是什么？對(duì)此，氮化硅的親水性GaN系統(tǒng)做出了四個(gè)預(yù)測(cè)： ■ 預(yù)測(cè)一：充電器和適配器領(lǐng)域回顧2020年，今年是氮化鎵充電器之年。在售后市場(chǎng)方面，有用于手機(jī)、平板電腦和手持游戲設(shè)備的各種充電器和適配器。隨著多端口適配器的興起，到 2021 年，OEM 將越來(lái)越多地采用 GaN 充電器。

1、氮化硼是親水性嗎（氮化硼是親水性還是疏水性）

擁有的技術(shù)在信息、計(jì)算機(jī)、半導(dǎo)體、光學(xué)儀器、等工業(yè)和電子元件、光電器件、太陽(yáng)能電池、傳感器等件制造業(yè)中廣泛應(yīng)用，氮化硼是親水性還是疏水性在機(jī)械行業(yè)中制作耐磨涂層、耐腐蝕涂層、其中，TiNi等涂層工具在切削領(lǐng)域引起了一場(chǎng)革命，金剛石膜、立方氮化硼膜的研究也非常熱門(mén)，并已被推廣到實(shí)用方面。真空-等離子蝕...

2、氮化硼涂料附著力（氮化硼涂料在金屬的附著力）

碳化硅元件已經(jīng)應(yīng)用于汽車(chē)逆變器，氮化硼涂料在金屬的附著力氮化鎵快速充電器也在市場(chǎng)上。未來(lái)五年，基于第三代半導(dǎo)體材料的電子器件將廣泛應(yīng)用于5G基站、新能源汽車(chē)、特高壓、數(shù)據(jù)中心等場(chǎng)景。 趨勢(shì)二、后“量子霸權(quán)”時(shí)代，量子糾錯(cuò)和實(shí)用優(yōu)勢(shì)是主要提議。 2020年是后量子霸權(quán)元年，全球?qū)α孔佑?jì)算的投資持續(xù)增長(zhǎng)...

3、氧化硅的親水性原理（氮化硅和氧化硅的親水性）

等離子清洗機(jī)不是什么臟東西就能洗掉的，氮化硅和氧化硅的親水性它更有針對(duì)性地去除一些物質(zhì)和材料表面改性處理。從名稱上看，清潔不是清潔，而是治療和反應(yīng)。從機(jī)理上看，等離子體清洗機(jī)在電壓和磁場(chǎng)作用下，通過(guò)工作氣體激發(fā)的離子與物體表面發(fā)生物理化學(xué)反應(yīng)。金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，如聚丙烯、聚酯、...