等離子有效成分包含：離子、電子器件、活性基團、核素(亞穩(wěn))、光子等。低溫等離子處理設(shè)備是根據(jù)這些活性成分對樣品進行表面處理，以實現(xiàn)清潔。同固體、液體、汽體一樣，等離子是化學(xué)物質(zhì)的一種情況，也被稱為物質(zhì)的第四態(tài)。給氣體足夠的能量，使它離化成等離子態(tài)。等離子的“活性”成分包含：離子、電子器件、活性基團、核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。低溫等離子處理設(shè)備根據(jù)這些活性成分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而達到清潔、改性的目的。
低溫等離子處理設(shè)備的原理主要依靠等離子中活性粒子的活化作用來去除物體表面的污漬。對于反應(yīng)原理等離子清洗往往包含下列環(huán)節(jié)：無機物氣體被激發(fā)為等離子；氣質(zhì)聯(lián)用化學(xué)物質(zhì)吸附在固體表面；吸附該基團與固體表面的分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子分析形成氣質(zhì)聯(lián)用；產(chǎn)物分子分析形成氣質(zhì)聯(lián)用；反應(yīng)殘渣與表面分離。24345