各種汽車(chē)密封條的表面處理采用表面能可達(dá)>60 DYNES/CM的常壓等離子清洗機(jī)從研磨或聚酯涂層工藝中去除，玻璃蓋板等離子蝕刻機(jī)器取決于擠出機(jī)或植絨，無(wú)需底漆。布速機(jī)實(shí)現(xiàn)在線加工，增加產(chǎn)能，降低成本，不損傷膠條表面，符合涂布水溶性膠的環(huán)保要求。低溫等離子清洗機(jī)（噴射）清洗機(jī)是加工門(mén)框密封條、門(mén)頭、車(chē)窗導(dǎo)槽、車(chē)窗側(cè)條、前后擋風(fēng)玻璃、前后蓋密封條等產(chǎn)品的首選。 1、汽車(chē)輪胎等離子清洗機(jī)。

低溫常壓等離子清洗機(jī)幾乎不改變微晶玻璃材料的表面晶相結(jié)構(gòu)和表面形貌。冷大氣壓等離子清洗處理可顯著提高微晶玻璃表面的親水性，玻璃蓋板等離子蝕刻機(jī)器增加氧含量。一組玻璃陶瓷表面。它可以改善微晶玻璃的表面性能，并可能在微晶玻璃與樹(shù)脂結(jié)合劑之間的化學(xué)鍵合中發(fā)揮積極作用。低溫/常壓等離子射流裝置可在開(kāi)放環(huán)境下產(chǎn)生穩(wěn)定的等離子射流，操作方便安全，不會(huì)在被加工材料表面留下有害物質(zhì)，適用。。

, 部分和復(fù)雜的結(jié)構(gòu)。等離子表面處理技術(shù)是一種有效的清洗、活化和鍍膜方法，蓋板等離子蝕刻機(jī)可應(yīng)用于塑料、合金材料、玻璃等多種材料。火焰等離子裝置的表面處理可以有效去除外觀上的脫模劑和添加劑，活化工藝保證了后續(xù)的粘合和涂層工藝的質(zhì)量，復(fù)合層的外觀特性可以進(jìn)一步提高。使用這種框架等離子技術(shù)，可以根據(jù)特殊工藝要求對(duì)材料進(jìn)行有效的預(yù)處理和美觀。

在物理等離子清洗過(guò)程中，玻璃蓋板等離子蝕刻機(jī)器氬氣形成的離子攜帶能量，沖擊工件表面，去除表面的無(wú)機(jī)污染物。在集成電路封裝過(guò)程中，氬離子與焊盤(pán)表面碰撞，去除工件表面的納米污染物，產(chǎn)生的氣態(tài)污染物被真空泵抽出。這種清洗工藝可以增加工件表層的活性，提高包裝中的結(jié)合性能。氬離子的優(yōu)點(diǎn)是它們是一種物理反應(yīng)，在清潔工件表面時(shí)不太可能攜帶氧化物。缺點(diǎn)是工件的材質(zhì)會(huì)造成過(guò)度腐蝕，可以通過(guò)調(diào)整清洗來(lái)解決。工藝參數(shù)。 2）等離子設(shè)備和氧氣。

蓋板等離子蝕刻機(jī)

等離子清洗機(jī)支持手動(dòng)和自動(dòng)操作，體積測(cè)量和獨(dú)特的等離子工藝控制可實(shí)現(xiàn)無(wú)與倫比的短周期時(shí)間，并使用專(zhuān)有算法在幾秒鐘內(nèi)為腔室提供高功率。手動(dòng)和自動(dòng)等離子清洗機(jī)（嵌入式或內(nèi)置處理程序），特別是均勻緊湊的腔室設(shè)計(jì)，可實(shí)現(xiàn)可互換的處理配置和等離子模式，以及產(chǎn)品各個(gè)方向的 3 軸對(duì)稱(chēng)等離子腔室。保證了均勻的處理，并且對(duì)所有工藝參數(shù)的嚴(yán)格控制確保了跨產(chǎn)品的可重復(fù)結(jié)果。

環(huán)會(huì)損壞，被處理工件的表面會(huì)受到化學(xué)損傷（氧離子會(huì)附著在表面，造成粗糙），最終會(huì)提高表面的附著力。暖等離子體中粒子的能量一般在幾到幾十個(gè)電子伏特左右，高于高分子材料的鍵能（幾到十個(gè)電子伏特），可以完全破壞有機(jī)聚合物的化學(xué)鍵，形成新的鍵。 . 也是大。但它遠(yuǎn)低于高能放射線，只包含材料的表面，不影響基體的性能。

如果探針電壓遠(yuǎn)高于或低于等離子體電位，則其鞘層寬度會(huì)增加，有效收集面積也會(huì)增加。此外，更復(fù)雜的雙探頭和發(fā)射探頭已被證明在許多情況下都非常有用。使用射頻驅(qū)動(dòng)的等離子清潔器，等離子電位的振動(dòng)也會(huì)使分析復(fù)雜化。一般來(lái)說(shuō)，由于探頭采用準(zhǔn)靜電式，探頭偏壓通常在等離子體電位下振動(dòng)，消除了冷等離子體表面處理裝置的電位振動(dòng)對(duì)探頭測(cè)量的影響。

等離子體改性只發(fā)生在材料表面，可以在不改變材料固有性能的情況下完全改善材料的表面性能。操作方便、清潔、高效、節(jié)能、環(huán)保。等離子處理前后的石墨膜表面含有元素C和O，但由于石墨膜的分子結(jié)構(gòu)，未處理的石墨膜不含氧。 XPS和空氣中的雜質(zhì)或水蒸氣吸附在石墨膜表面，從而引入氧元素。等離子處理后，引入羥基、羧基等含氧官能團(tuán)，石墨膜表面化學(xué)成分發(fā)生明顯變化。

玻璃蓋板等離子蝕刻機(jī)器