3、低溫等離子表面技術成本低：設備簡單，表面改性碳化硅操作維護方便，用少量氣體代替昂貴的清洗液，無廢液處理成本。 4、低溫等離子表面技術的加工更精密。它可以穿透微孔和凹坑內部完成清潔操作。 5、低溫等離子表面技術應用廣泛：等離子表面處理技術應用廣泛，可處理大部分固體。。等離子設備中常用的氣體是N2。這種蒸汽主要與在線等離子體結合使用，用于材料表面的表面活化和改性?？梢栽谡婵罩惺褂?。 N2對提高材料表面的潤濕性有一定的作用。

在線等離子體在清洗機等離子體中，表面改性碳化硅放電可產生處理硅油所需的活性基團，控制轟擊硅油的離子能量。將等離子體反應與離子轟擊效應相結合可以改變硅油的結構，得到具有光致發(fā)光特性的改性硅油或非晶態(tài)Si：C：O：H薄膜。。在線等離子清洗機系統(tǒng)設備的機械結構與功能；等離子清洗機作為一種精密干洗設備，能有效去除IC封裝過程中的污染物，改善材料表面性能，提高材料表面能。

火焰處理后，表面改性碳化硅工件表面羰基的產生，提升了產品表面的極性，工件的表面張力能達到42~48dynes/cm，使得之后噴涂上去的底漆，能夠快速延展開的同時，又能與底漆中的聚丙烯基團發(fā)生反應，形成牢固的化學鍵，從而有效提升油漆的附著力。同時，基材表面張力的提升，也能使油漆能更好的鋪展在基材表面，從而提升油漆附著力。此方法快速簡便,缺點是耐老化性差,火焰處理工藝難以控制。

因此，高聚物表面改性處理的定義低溫等離子體處理后界面結合強度可明顯提高，而低溫等離子體處理制得的膠合板結合強度可達0.78MPa，提高20%，達到國家標準。這說明在粘接強度達到標準的情況下，常壓低溫等離子體處理可以減少上膠量，降低了生產成本。 等離子體中的高能粒子高速撞擊木材表面，降解木材細胞壁中的高聚物。這些表面不規(guī)則的小刻痕增加了楊木的表面粗糙度，促進了改性豆膠在楊木單板表面的滲透，增加了界面結合強度。

表面改性碳化硅

目前，上述粉末等離子體處理設備技術的實用或接近實用的應用包括：聚合物表面活化，提高聚合物表面與其他材料的粘附性，如與著色劑或油漆的粘附；食品或藥品包裝用透明介質阻隔膜，阻隔氧氣、水蒸氣或其他芳香氣體；可用于羊毛或天然纖維的防起球起毛處理，增加紡織品的透濕性；人造血管或導管用抗栓塞、抗菌涂料；刀具硬化土層、氣液敏感膜元件等。。

在等離子體條件下，可以在產品工件表層實現聚合，甚至甲烷、乙烷、苯等傳統(tǒng)聚合條件下不能聚合的物質，在plasam條件下可以在產品工件表層實現交聯聚合。這種高聚物層可以非常致密，并與基底結合得非常牢固。在國外塑料啤酒瓶和汽車油箱中，等離子體聚合在這樣一層致密層上，以防止微量泄漏。高聚物生物醫(yī)學材料的表層也可以根據這種致密層防止塑料中的增塑劑和其他有毒物質擴散到人體組織中。。

其中，有機旋涂多層掩模技術中使用的旋涂為碳氫聚合物，有機材料的減反射層為含硅碳氫聚合物，兩者均為液態(tài)，低溫烘烤形成固態(tài)掩模。之所以稱為軟掩模技術，是因為它被集成到光刻機中，并且過程非?？?。用于高級圖形材料的多層掩模也稱為硬掩模技術，因為它們是高級圖形材料（非晶碳膜）的化學氣相沉積作為抗反射層和電介質（如氮氧化硅）膜。

由于H是輕離子，它不會像HE那樣蝕刻氮化硅膜，并且用于膜處理。電容耦合等離子刻蝕機可以通過調整偏置功率和注入時間來調整氮化硅表面膜層的氫濃度和注入深度。在氮化硅薄膜中，H的濃度與隨后的氫氟酸蝕刻速率密切相關。通過控制氮化硅膜中的氫濃度，實現了特性變化的氮化硅膜與體氮化硅膜之間的刻蝕選擇性。對于等離子框機刻蝕在硅鍺材料處停止的側壁刻蝕，這種原子層刻蝕方法可以控制6&ARING中的硅存儲損失。。

表面改性碳化硅

下圖顯示了碳化硅 SiC、氮化鎵 GaN、硅 Si 和砷化鎵 GaAs 的一些參數。 SiC GaN 和 GaN 之間的帶隙遠大于 Si 和 GaAs 之間的帶隙，表面改性碳化硅相應的本征載流子濃度小于 Si 和 GaAs 的帶隙。寬帶隙半導體的高工作溫度高于第一半導體。以及第二代半導體材料。介電擊穿電場強度和飽和熱導率也遠高于Si和GaAs。

因此，表面改性碳化硅在一些合適的條件下，探針法只對等離子體產生較小的局部干擾。下圖顯示了一個探頭的電壓和電流的定義。在具體診斷過程中，探頭相對于地的偏置電壓為VB，而等離子體相對于地的電位為&phi；P.當探針電壓Vb=&phi時；P，探針與等離子體處于同一電位，它收集的電流主要來自可移動電子。